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缺陷与金属位点双调控:UiO-67实现氨气吸附精准调节 |
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研究背景
金属有机框架(MOFs)中的锆基UiO-67因超高稳定性和结构可调控性成为研究热点,然而如何系统调控其氨吸附性能仍是挑战。近日,苏州大学赵朴团队在ENG. Chem. Eng.发文,提出了缺陷工程与金属位点工程互补策略,可实现UiO-67氨吸附“形状”与“容量”的独立调控。缺陷工程可实现缺陷密度近10倍可调,获得阶梯型可调节NH3吸附等温线;铜功能化使最优样品吸附量提升超50%。研究系统地表征了材料结构演变,建立了结构与吸附性能的构效关系,证实缺陷调控与金属位点引入是设计面向特定应用的NH3吸附MOF材料的有效和互补手段。

研究内容
本研究构建了“缺陷调控”与“金属负载”两大研究框架,核心策略如下:
1.缺陷工程体系:选用三种单羧酸调节剂——乙酸(pKa 4.76)、二氟乙酸(pKa 1.34)和三氟乙酸(pKa 0.23),通过改变调节剂酸强度与用量,系统地调控UiO-67中配体缺失缺陷密度。
2.金属位点工程体系:以2,2-联吡啶-5,5-二甲酸(H2bpydc)功能化配体替代部分联苯二甲酸(H2bpdc),通过后合成金属化(PSF)引入Cu2+开放金属位点。
缺陷密度近10倍调控,等温线形状显著变化
模拟与实验确定调节剂酸强度与用量协同控制缺陷密度,实现了5.4%(Acet8)到50.1%(Trif20)的近10倍调控。低缺陷样品(Acet系列)在~20 kPa呈现明显的第一台阶(三角窗孔填充),高缺陷样品(Trif20)第一台阶消失、在~65 kPa出现显著的第二台阶(菱形窗孔填充)。氟化调节剂中的F原子可通过氢键与NH3相互作用,额外贡献高压区吸附容量。
Cu负载引入Lewis酸性位,容量提升超50%
Cu负载形成开放金属位点,通过Lewis酸碱作用增强NH3亲和力。5py-Cu样品的氨吸附容量较未负载Cu前提升超50%,其NH3-TPD脱附峰面积较20py-Cu增大84.2%,证实低比例bpydc-Cu的优越性。而高比例bpydc-Cu因Cu团簇堵塞孔道(BET比表面积从2247 m2·g-1降至1323 m2·g-1),导致性能逆转。
双策略互补机制明确
缺陷工程主导吸附等温线轮廓形状(台阶位置和数量),金属负载直接决定吸附容量,二者独立可调、协同增效,为应用导向的吸附剂设计提供了灵活方案。
未来展望
针对当前氟化调节剂成本较高、Cu负载量-分散度关系尚需精细优化等问题,提出以下未来研究方向:
(1)探索更经济高效的酸性调节剂体系,降低缺陷工程成本;(2)精准控制Cu分散度,避免团簇堵塞,并拓展至其他金属(如Ni、Co);(3)面向实际工业场景(如NH3/H2分离、痕量NH3传感)开展动态穿透与选择性测试。
重要图表解读

图2.为缺陷工程各样品的氨吸附等温线(298K)。Acet系列缺陷密度低(5.4%–12.9%),等温线形状相近;Trif系列缺陷密度高(21.3%–50.1%),第一台阶减弱、第二台阶增强,Trif20在100 kPa反超Acet8。

图4.展示了Cu负载对吸附量的提升效果,体现出“联吡啶低比例提升/高比例下降”的关键规律。
(来源:EngineeringJournals微信公众号)
相关论文信息:https://journal.hep.com.cn/fcse/EN/10.1007/s11705-026-2653-7
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