作者:彭丽 来源:中国科学报 发布时间:2016/3/24 9:49:48
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中科院光电所
新型光刻机提升微纳实用制造水平

 

本报讯(记者彭丽)中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队,近日自主研制成功紫外纳米压印光刻机。该机器将新型纳米压印高分辨力光刻技术与紫外光刻技术有机结合,成本仅为国外同类设备的1/3,并在同一加工平台上实现了微米到纳米级的跨尺度图形加工,使我国微纳实用制造水平迈上新的台阶。

光刻机是实现微纳图形加工的专用高端设备,它的出现使集成电路得以诞生,引发了第三次工业革命,人类进入信息时代。长期以来,发达国家对光刻机这样的战略装备采取“禁运”和技术封锁,即使不禁运,光刻机也价格昂贵,严重制约了我国高端信息产业的发展。

微电子装备总体研究室主任胡松表示,设备采用的新型纳米对准技术,成功将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级,是实现功能化器件加工的关键。其应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题,为高精度纳米器件的加工提供了技术保障。设备可广泛应用于微纳流控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备。

《中国科学报》 (2016-03-24 第4版 综合)
 
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