作者:范建 来源:科技日报 发布时间:2009-7-6 17:22:05
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华中科大教授刘胜获IEEE CPMT“杰出技术成就奖”
 
美国加利福尼亚州圣地亚哥刚刚结束的第59届国际电子元件与技术(ECTC)会议上,华中科技大学武汉光电国家实验室教授、长江计划特聘学者刘胜,获得美国电气和电子工程师协会(IEEE)组件封装与制造技术学会(CPMT)五项大奖之一的“杰出技术成就奖”,这是中国大陆科学家首次在该领域获奖。
 
奖项评委认为,刘胜因开创性地将多学科、多尺度建模应用于微电子、光电子、LED制造工艺模拟和可靠性评估以及发展相应的在线、离线检测工具,并在过去17年大量应用于国际各大企业而获此殊荣。
 
据悉,“杰出技术成就奖”是颁给在特殊技术领域里成绩斐然的IEEE CPMT会员或团队,是对获奖者学术贡献的最佳肯定。此奖每年评选一次,名额一人,终身只能获奖一次。
 
除“杰出技术成就奖”外,IEEE CPMT其他四项大奖分别是“大卫菲尔德曼奖”“杰出青年工程师奖”“电子制造技术奖”和“持续技术杰出贡献奖”。
 
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