| 《德国应用化学》2008年47卷29期 |
|
| 氧化还原系统可降低荧光染料的褪色效应 |
|
荧光光谱学因其优越的选择性、灵敏度和高分辨率而得到广泛的应用。现在这一技术的瓶颈在于荧光基团的使用，主要是各类发光基团的褪色效应问题。目前，科学界解决这一难题的方法主要是依靠增加发色基团的亮度，分子淬火，或者是降低反应的灵敏性等等。因为各种各样的原因，上述方法都有各自的缺陷而没有很好地解决问题。
来自德国比勒费尔德大学的学者们设计了一种全新的方法，通过保护反应中间产物来降低荧光染料的褪色效应。这一方法基于转移氧分子和分子淬火的电子转移反应，一个独特的氧化还原系统被引入其中。实验结果通过单分子荧光光谱技术得到了验证：该氧化还原系统使得有机类的荧光染料光稳定性大大提高，褪色效应则被很大程度地削弱了。
由于该方法操作简便，所用物质价格低廉，我们有理由相信，其应用前景十分广阔，尤其是在各类高分辨率显微成像方面，定会大放异彩。
原文链接：http://www3.interscience.wiley.com/journal/120695432/abstract（邵振宇/编译）
《科学新闻》 (2008年 9月 第2期 封面集锦)